FIB服务即将展开

将定于下个月即9月末到货安装一台FEI最先进型号的双束FIB，服务于北京市场，届时能有45nm线路修补能力。

Helios NanoLab是目前最强大的场发射扫描(FESEM)+聚焦离子束(FIB)"双束"显微镜系统, 是FESEM/FIB 应用的前沿工具:
- 无与伦比的成像性能
- 二维和三维 纳米分析
- 高级纳米原型设计
- 终极的样本制备性能


技术参数：
1.分辨率
　在最适佳工作距离下：
　　0.9nm @ 15kV
　　1.4nm @ 1kV
　在束交点(电子束+离子束)的工作距离下：
　　1.0nm @ 15kV, 束交点工作距离 4mm
　　5nm FIB @ 30kV，束交点工作距离 16.5mm
2.加速电压范围：
　　SEM: 30kV 至 350V
　　FIB: 30kV 至 500V
3.探测器：
　　新一代TLD二次电子/背散射电子探测器
　　样品室红外CCD
　　可选CDEM离子探测器、STEM、固体背散射探测器等
4.气体注入系统（GIS）：
　　Pt沉积气体
　　W沉积气体
　　C沉积气体
　　金属增强蚀刻气体
　　氧化物增强蚀刻气体
　　(FEI目前可提供多达11种气体)
5.150mm(6")压电陶瓷马达驱动的全对中样品台

主要特点：
1. Schottky FESEM第一次达到亚纳米分辨率
2. FIB出色的分辨率以及最大范围的束流和加速电压
3. 出色的成像质量和系统稳定性
4. 新集成的电子和离子束16 位数字图案生成器
5. 最薄的样品制备，非常低的样品损伤、高速度、并且操作轻松
6. 二维和三维的纳米表征和纳米原型制作达到了新的极限