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    预处理

Precon

超声波扫描(Pre-SAM)—烘烤—温湿度浸泡—reflow—超声波扫描(Post-SAM);模拟IC在使用之前在一定的温度、湿度下存储的耐久力,也就是IC在生产到使用之间存储的可靠性。

 
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    冷热冲击(TC)

TC

评估IC产品中具有不同热膨胀系数的金属之间的界面的接触良率。方法是通过循环流动的空气从高温到低温重复变化。试验是以常温—低温—低温停留—高温—高温停留—常温作为一个循环,执行温度循环的严厉程度以高/低温的范围,停留时间以及循环数来决定。

失效机制:电介质的断裂,导体和绝缘体的断裂,不同界面的分层;

测试规范:JESD22-A104

 

 
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    高压蒸煮加速实验(HAST)

HAST

评估IC产品在偏压下高温,高湿,高气压条件下,对湿度的抵抗能力,加速其失效过程。如果半导体封装不好的话,湿气会沿着胶体或胶体与导线架之接口渗入封装体中。

失效机制:电离腐蚀,动金属化区域腐蚀造成之断路,封装体引脚间因污染造成之短路,封装气密性

测试规范:JESD22-A118

 
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    HTRB
 
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    老化实验(Burn in)

一般常见的老化寿命实验方法有BI(Burn-in),EFR(Early Failure Rate),HTOL(High Temperature Operating Life),HTGB(High Temperature Gate Bias),HTRB(High Temperature Reverse Bias),BLT(Bias Life Test)

评估器件在超热和超电压的情况下,一段时间的耐久力。

失效机制:电子迁移,氧化层破裂,相互扩散,不稳定性;

实验规范:JESD22-A108

 
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    高压高湿实验(SPP)
 
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