反应离子刻蚀机（RIE）

反应离子刻蚀机是利用射频电源和反应气体在一定真空下辉光放电产生等离子体，使反应气体产生氧离子，氟离子等与目标材料发生反应变成气体由真空抽走。利用各向同性特性使之产生接近垂直的沟道，暴露我们关注的材料，通常指芯片电路层的metal层或poly层。