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ADVANCED Service
Non-Destructive Analysis
Destructive Analysis
Chemical Handling
FIB Service
Reliability Service
ESD/HBM/MM
Solderability Test
Grinding/Polishing Consumables
 
    Laser Decap
开封
 
项目简介:开封(Decap ),又名开窗,开帽,是一种针对封装产品用酸将Chip芯片上的封装塑胶去除,让Chip芯片裸露出来的方法,流程包括样品准备,机器预热,化学酸蚀,清洗,最后提供芯片表面外观图片 等数据。仪准科技拥有化学自动开封及激光开封设备,有齐全的开封附件,为金线、铜线、铝线等各类封装提供专业的开封服务
主要用途:封装产品进行开封,使chip芯片裸露出来,方便后续分析(观察芯片表面、做EMMI、做去层、探针做电信号测量等)。

测试标准
GJB 548B-2005 微电子器件试验方法和程序

服务范围
电子元器件(PLCC,QFP,QFN,COB……)

主要检测设备:
 
 
 
 
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    Manual Decap
 
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    Auto Decap
开封
 
项目简介:开封(Decap ),又名开窗,开帽,是一种针对封装产品用酸将Chip芯片上的封装塑胶去除,让Chip芯片裸露出来的方法,流程包括样品准备,机器预热,化学酸蚀,清洗,最后提供芯片表面外观图片 等数据。仪准科技拥有化学自动开封及激光开封设备,有齐全的开封附件,为金线、铜线、铝线等各类封装提供专业的开封服务
主要用途:封装产品进行开封,使chip芯片裸露出来,方便后续分析(观察芯片表面、做EMMI、做去层、探针做电信号测量等)。

测试标准
GJB 548B-2005 微电子器件试验方法和程序

服务范围
电子元器件(BGA,WBGA,PLCC,QFP,QFN,COB……)

主要检测设备:
 
 
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    Milling

IC 铣床

在IC表面选定区域铣一个窗口,这个窗口的大小和深度可以得到精密控制,用于芯片减薄,叠die去除,backside emmision 样品制备等。

 
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    PEM
PEM
 
PEM(Photon Emission Microscopy)即发光显微镜,用来捕捉电子和空穴结合时产生的光子
它可以探测以下失效形式:
栅极氧化层被击穿
内部绝缘层短路
热电子损伤
闩锁效应
静电损伤
 
 
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    OBIRCH
 
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    Grinding/Polishing
金相切片
 
仪准科技金相实验室为客户提供专业的金相切片检测服务。
金相切片是用特制液态树脂将样品包裹固封,然后进行研磨抛光的一种制样方法,流程包括、固封/粘贴、研磨、抛光、最后提供形貌照片、开裂/分层等缺陷照片。
主要用途:是一种观察样品截面组织结构情况的最常用的制样手段,
1、切片后的样品常用立体显微镜或者金相测量显微镜观察 :
2、切片后的样品可以用于SEM/EDS扫描电镜与能谱观察形貌与分析成份。
3、作完无损检测如x-ray,SAM的样品所发现的疑似异常开裂、异物嵌入等情况,可以用切片的方法来观察验证。
 
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    Probe Station
 
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    SEM/EDX

Hitachi S8010 FESEM

配备Hitachi最新型号 SU8010 FESEM/EDX,能为芯片剥层提供更好的观察能力。

SU8010
SU8020
SU8030
SU8040
Secondary Electron Image Resolution 1.0 nm (Vacc 15 kV, WD=4 mm)(*1)
1.3 nm (landing voltage 1kV, WD=1.5 mm)(*1)
Mag Low mag mode 20-2,000x (Magnifi cation on Photo)(*2)
80-5,000x (Magnifi cation on display)(*3)
High mag mode 100-800,000x (Magnifi cation on Photo)(*2) 80-800,000x (Magnifi cation on Photo)(*2)
400-2,000,000x (Magnifi cation on display)(*3) 300-2,000,000x (Magnifi cation onisplay)(*3)
Electron Optics Electron gun Cold cathode field emission source
Accelerating voltage 0.5 kV to 30 kV (Standard mode)
Landing voltage 0.1 kV to 2.0 kV (Deceleration mode)
Objective lens aperture Objective aperture (Heating type), 4openings, selectable from outside of vacuum
Electrical Image Shift ±12µm (WD=8 mm)
Specime Stage Stage Control 3-axis motor drive
5-axis motor drive(*4)
5-axis motor drive 5-axis motor drive (Regulus Stage)
Traverse range X 0 - 50 mm 0 - 110 mm
Y 0 - 50 mm 0 - 110 mm 0 - 80 mm
R 360°
T -5 - 7°
Z 1.5 - 30 mm 1.5 - 40 mm
Max. sample size 100 mm dia. (Maximum) 150 mm dia. (Maximum)
150 mm dia.(*4) 200 mm dia.(*4)
-
Stage repeatability
-
-
-
less than ±0.5µm
Detector Secondary electron detector Lower/Upper Lower/Upper/Top
SE/BSE Signal Mixing Function (Upper detector)
Backscattered Electron Detector Semiconductor type BSED(*4)
YAG BSED(*4)
Transmission Electron Detector STEM detector (for BF-STEM)(*4)
BF-STEM aperture(*4)
DF-STEM holder(*4)
Other Energy dispersive X-ray spectrometer(*4)
Faraday cup(*4)
EBIC image observation unit(*4)

 
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