中文 English
 
热门强项
I-V曲线跟踪仪
工业X光透射仪
3D X-Ray
超声波扫描显微镜
金相显微镜
体式显微镜 3D
金相制样，研磨切割
激光开封机
全自动开封机
反应离子刻蚀机
电子扫描显微镜
聚焦离子束（FIB）
漏电微光显微镜分析仪
静电测试
推拉力测试
探针台测试
    反应离子刻蚀机
反应离子刻蚀机
 

 

u主要用途
器件表面图形的刻蚀。
u 
性能参数
a)可实现各向异性刻蚀，工艺稳定，重复性好；
b)射频功率源：600瓦，频率13.56MHz；
c)刻蚀时间可调范围：10s-1800s
d)配置3路MFC
u
 
应用范围
对Si、 Poly-Si、 SiO2、 Si3N4、 PI、 Ti、 Ta、 Mo等物质进行各项异性刻蚀后的观察。
 
返回列表>>
 
Copyright © 2012 仪准科技（北京）有限公司，技术支持：汇成传媒
与我联系×
联系人:王志炜
电话:010-82156585
手机:18910188082